Lace litography : la litographie atomique menace asml et redéfinit la fabrication des puces

Une startup norvégienne, Lace Litography, pourrait bien bouleverser l'industrie des semi-conducteurs. Sa Technologie, basée sur un faisceau d'atomes d'hélium, promet de repousser les limites de la gravure des puces, défiant ainsi la domination d'ASML, le géant néerlandais.

Lace litography : une révolution atomique en vue

La litographie EUV, Technologie actuelle, repose sur un faisceau de lumière ultraviolette. Coût exorbitant (plus de 300 millions de dollars par machine), elle est devenue un véritable monopole détenu par ASML. Lace Litography propose une alternative radicale : un faisceau d'atomes d'hélium, 135 fois plus fin que la lumière EUV. Cela ouvrirait la voie à la fabrication de puces 10 fois plus petites, atteignant une résolution